磁控溅射ito专利

1、如何提高ITO穿透率？

ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法镀上一层氧化铟锡（俗称ITO）膜加工制作成的。液晶显示器专用ITO导电玻璃，还会在镀ITO层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以阻止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。

所以在方阻一定的条件下，要提高ITO导电玻璃的透过率，可从氧化铟和氧化锡的配比、二氧化硅阻挡层的厚度两个方面来考虑

2、ito靶材是什么

ito靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结（1600度，通氧气烧结）形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用ito靶材作为原材料，通过磁控溅射把ito靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上。

ito靶材主要是在平板显示器中得到广泛的运用，靶材主用是在半导体中运用广泛。科技发展的迅速，让电子行业在市场中占据很大的份额，直接影响到了人们的工作和生活。

ito靶材有极高的性能优势，而且有比较高的耐热冲击性，在使用中不会对设备造成损坏，同时它的纯度特别的高。目前，市场中很多电子产品都用到了平面显示器，液品电脑、液品电视进入到了千家万户，液晶的产品不管是在外观上还是在质地上都是比较高的，而且能够降低耗能。

ito靶材被广泛运用到了电子领城，因为电子领域对于材料的要求普遍比较高。它为电子行业的发展起到一定的推进作用，同时靶材能够延长电子产品的使用寿命，而且质量也比较符合检测标准，一般很少会出现产量不合格的现象，同时在外观上也能符合人们的要求。

3、什么是ITO？ITO导电膜有什么用

液晶显示器的液晶盒中上下玻璃片之间的间隔,即通常所说的盒厚,一般为几个微米(人的准确性直径为几十微米).上下玻璃片内侧,对应显示图形部分,镀有透明的氧化甸-氧化锡(简称ITO)导电薄膜,即显示电极。
ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法（ITO 薄膜的制备方法有蒸发、溅射、反应离子镀、化学气相沉积、热解喷涂等, 但使用最多的是反应磁控溅射法），在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡(ITO)导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。ITO膜层的厚度不同，膜的导电性能和透光性能也不同。一般来说，在相同的工艺条件和性能相同的PET基底材料的情况下，ITO膜层越厚，PET-ITO膜的表面电阻越小，光透过率也相应的越小。ITO薄膜具有良好的导电性和可见光区较高的光透过率。

4、求救！！什么是射频磁控溅射ITO薄膜沉积速率的研究

沉积速率：沉积在物体表面的膜层形成过程的快慢
射频溅射：极高频率，达到射频范围，通过电场，将固定的材料分子从材料上溅射出来。（后期沉积到指定的基体）
ITO：自己查查百度
一般速率研究包括在不同的环境下：溅射时气体压强（真空度）、电流、电压、频率、功率等等，相同时间内形成的膜层厚度。

5、ito靶材是什么？

ito靶材属于陶瓷靶材的一种，近些年来人们对于电脑、电视、手机显示屏的追求越发明显，由此也带动了ito靶材的市场需求。但目前ito技术发展还不够先进，发展空间巨大。

ITO材料是一种n型半导体材料，该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为平板显示器(FPD)产业，如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)等离子显示器(PDP)等。

(5)磁控溅射ito专利扩展资料：

国内对ITO靶材的需求量大幅增长，国内生产的ITO靶材密度低，无法满足高端平板显示器行业对于靶材质量的要求．仅仅部分用于低端液晶产品中。目前世界上只有日本、美国、德国等少数发达国家和地区能生产ITO靶材，而我国平板显示器产业所需求的ITO靶材的98％依赖于进口，因此，研制开发ITO靶材生产技术是现有In生产企业开发In深加工技术的首选目标。

国外ITO靶材的生产工艺和技术设备已较为成熟和稳定。其主要制备方法有热等静压法、热压法和烧结法。

6、聆道的磁控溅射系列隔热膜怎么样？

聆道磁控溅射复系列隔热膜是由价制值3千万欧元的磁控溅射设备制造而成，严格把控每一个生产环节，采用美国航天科技，稀有金属多层磁控溅射，其优异的隔热表现来自于独特的智能光谱选择性技术，凭借多项独有专利技术，聆道隔热膜实现了高透光与高隔热的完美平衡，满足人们对汽车隔热膜透光与隔热的双重需求。