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上海集成电路装备材料产业创新

发布时间: 2022-06-27 03:08:00

1、上海张江集成电路产业区开发有限公司怎么样?

上海张江集成电路产业区开发有限公司是2001-04-10在上海市注册成立的有限责任公司(非自然人投资或控股的法人独资),注册地址位于中国(上海)自由贸易试验区张东路1387号20幢。

上海张江集成电路产业区开发有限公司的统一社会信用代码/注册号是91310115703101852D,企业法人刘樱,目前企业处于开业状态。

上海张江集成电路产业区开发有限公司的经营范围是:集成电路研究开发,高科技项目经营转让,高科技成果转让,创业投资,实业投资,建筑工程(按许可资质经营),房地产开发经营,物业管理、物业咨询,商务咨询(以上咨询范围均不含经纪),会务服务,艺术表演场馆的经营管理,建筑材料、机械设备、电器设备的销售,国内贸易,张江集成电路产业区土地开发。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】。在上海市,相近经营范围的公司总注册资本为16242273万元,主要资本集中在5000万以上规模的企业中,共2241家。本省范围内,当前企业的注册资本属于一般。

上海张江集成电路产业区开发有限公司对外投资3家公司,具有0处分支机构。

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2、上海集成电路研发中心 怎么样

上海集成电路研发中心根据国家关于加快集成电路产业发展的有关政策,由上海市政府于2002年底支持组建成立,是面向全国集成电路企业、大学及研究所开放的非盈利性公共研发机构,并按照现代企业制度实现企业化经营管理,并于2007年5月被国家发展和改革委员会等六部委核准为国家级集成电路研发中心。研发中心保持以发展与中国集成电路产业相适应的应用技术为主线,通过与产业界协调发展的方式获得持续发展能力。

3、集成电路产业发展现状与未来趋势分析资料

集成电路产业信息产业的核心之一,是引领新一轮科技革命和产业变革的关键力量。“十三五”以来,我国集成电路产业快速增长、龙头企业涌现、但产业的整理竞争力有待提升。“十四五”时期我国集成电路产业将如何发展,本文将从发展重点、发展目标两大方面进行分析。

1、“十三五”发展回顾

——国内市场快速增长、贸易逆差扩大

集成电路产业信息产业的核心之一,是引领新一轮科技革命和产业变革的关键力量。“十三五”以来,我国集成电路产业快速增长,2020年,集成电路产业销售额达8848亿元,平均增长率达到20%,为同期全球产业增速的3倍。但同时,我国集成电路的进出口贸易逆差总体扩大,2020年达2334.4亿美元。

——中国龙头企业涌现、整体实力待提升

在全球集成电路产业的竞争格局中,目前仍以美国“一家独大”,中国大陆、韩国快速发展,而欧洲、日本、中国台湾则有所衰退。

在国家政策和市场需求的驱动下,国内涌现出一批龙头企业,在集成电路设计环节,有海思半导体、豪威集团、智芯微电子等企业;在集成电路的研发创新方面,2020年,浪潮智能、华虹集团和长江储存科技的专利公开量排名靠前。

2、“十四五”发展重点解读

——技术、工艺、研发、宽禁带半导体

根据《“十四五”规划纲要和2035年远景目标纲要》,“十四五”期间,我国集成电路产业将围绕技术升级、工艺突破、产业发展和设备材料研发四个方面重点发展:

此外,在2021年全国“两会”期间,全国人大代表们围绕金融支持模式、第三代半导体发展、产业资源共享等内容为集成电路产业的发展建言献策:

——围绕四大环节重点发展

2014年,国务院为支持集成电路产业的发展,印发了《国家集成电路产业发展推进纲要》。《纲要》提出了我国集成电路产业在2015-2030年间的发展目标,并从集成电路设计业、制造业、封测业和关键装备、材料四个方面提出了主要任务和发展重点。

3、“十四五”发展目标解读

——2030年:产业链主要环境达到国际先进水平

根据《国家集成电路产业发展推进纲要》中提出的发展目标,至2015年,集成电路产业销售收入超过3500亿元;至2020年,全行业销售收入年均增速超过20%,截至2021年3月末,这两项目标均已完成。展望2030年,我国集成电路产业链主要环节达到国际先进水平,一批企业进入国际第一梯队,实现跨越发展。

另根据国家制造强国建设战略咨询委员会发布的《中国制造2025》重点领域技术路线图,其中针对集成电路产业的市场规模、产能规模等提出了具体的量化发展目标:

——各省市发展目标汇总

此外,全国各省市也围绕集成电路产业的产业规模、龙头企业数量等内容,提出了“十四五”时期的发展目标:

—— 更多行业相关数据请参考前瞻产业研究院《中国集成电路行业市场需求预测与投资战略规划分析报告》

4、目前我国在哪四大重点领域地方?

发力“新基建”,抢占新风口。昨天举行的市政府新闻发布会上,《上海市推进新型基础设施建设行动方案(2020—2022年)》(以下简称《行动方案》)正式发布。立足数字产业化、产业数字化、跨界融合化、品牌高端化,《行动方案》从建设任务、保障举措等方面提出35条举措,力争用三年时间推动上海新型基础设施规模和创新能级迈向国际一流水平。

《行动方案》提出,通过三年努力,率先在四个方面形成重要影响力:率先打造新一代信息基础设施标杆城市,率先形成全球综合性大科学设施群雏形,率先建成具有国际影响力的超大规模城市公共数字底座,率先构建一流的城市智能化终端设施网络。

《行动方案》明确了具有上海特色的“新基建”四大重点领域——以新一代网络基础设施为主的“新网络”建设;以创新基础设施为主的“新设施”建设;以人工智能等一体化融合基础设施为主的“新平台”建设;以智能化终端基础设施为主的“新终端”建设。上海将通过四大建设行动,全力提升新型基础设施能级,目前已初步梳理排摸了未来三年实施的第一批48个重大项目和工程包,预计总投资约2700亿元。

推进上海特色“新基建”,政府要引导、市场是主体、重大政策举措是保障。《行动方案》表示,将进一步加强市区协同,在创新支持方式、加强指标保障、推动资源开放、优化规划布局、完善规则标准、培育市场需求等方面加强引导,为社会资金加大“新基建”投入营造更加良好的环境。

下一步,上海将全力落实好“新基建”35条,高水平推进5G等“新网络”建设,持续保持“新设施”国际竞争力,加快建设人工智能等“新平台”,完善社会治理和民生服务“新终端”布局,为上海加快构建现代化产业体系厚植新根基,打造经济高质量发展新引擎。

《行动方案》主要内容如下:

一、上海新型基础设施建设现状

近年来,上海围绕科技创新中心、综合性国家科学中心以及新型智慧城市、下一代互联网示范城市、新一代人工智能创新发展试验区等建设,加强网络基础设施、数据中心和计算平台、重大科技基础设施等布局,总体水平一直保持国内领先。

一是网络基础设施建设水平“国内领先”。已实现全市16个区5G网络连续覆盖。建设了15个具有全国影响力的工业互联网行业平台,带动6万多家中小企业上云上平台。在静安、嘉定、杨浦、虹口、普陀等区率先开展新型城域物联网百万级规模部署。

二是数据中心和计算平台规模“国内领先”。目前互联网数据中心已建机架数超过12万个,利用率、服务规模处于国内第一梯队。市大数据平台累计已汇集全市200多个单位340亿条数据,数据规模总体在国内领先。

三是重大科技基础设施能级“国内领先”。上海已建和在建的国家重大科技基础设施共有14个,大设施的数量、投资金额和建设进度均领先全国。

二、上海版“新基建”《行动方案》主要内容

《行动方案》立足于数字产业化、产业数字化、跨界融合化、品牌高端化,坚持新老一体、远近统筹、建用兼顾、政企协同,提出了指导思想、行动目标、4大建设行动25项建设任务、8项保障措施,形成了上海版“新基建”“35条”。

一是明确了具有上海特色的“新基建”重点领域。聚焦新时代上海城市功能和核心竞争力提升,以及新经济发展要求,明确了推进上海特色“新基建”的4大重点领域:以新一代网络基础设施为主的“新网络”建设;以创新基础设施为主的“新设施”建设;以人工智能等一体化融合基础设施为主的“新平台”建设;以智能化终端基础设施为主的“新终端”建设。

二是提出了符合上海城市功能和定位的具体行动目标。通过3年努力,率先在4个方面形成重要影响力:率先打造新一代信息基础设施标杆城市,率先形成全球综合性大科学设施群雏形,率先建成具有国际影响力的超大规模城市公共数字底座,率先构建一流的城市智能化终端设施网络。到2022年底,推动全市新型基础设施建设规模和创新能级迈向国际一流水平。

三是全力实施上海版“新基建”4大建设行动。要对标一流水平,围绕新网络、新设施、新平台、新终端进行统筹布局,全力提升新型基础设施能级。初步梳理排摸了未来三年实施的第一批48个重大项目和工程包,预计总投资约2700亿元。

1、“新网络”建设行动。把握全球新一轮信息技术变革和数字化发展趋势,率先构建全球领先的新一代网络基础设施布局。主要包括:高水平建设5G和固网“双千兆”宽带网络,加快布局全网赋能的工业互联网集群,建设100家以上无人工厂、无人生产线、无人车间,带动15万企业上云上平台;加快下一代互联网规模化部署;建设新型政务外网及网络安全设施;构建全球信息通信枢纽。

2、“新设施”建设行动。立足科技创新中心和集成电路、人工智能、生物医药“三大高地”建设,持续提升科技和产业创新基础设施能级。主要包括:加快推进硬X射线等大设施建设,开展下一代光子科学设施预研;争取国家支持布局新一轮重大科技基础设施;建设电镜中心、先进医学影像集成创新中心、国家集成电路装备材料产业创新中心等若干先进产业创新基础设施;围绕前沿科学研究方向,布局建设重大创新平台。

3、“新平台”建设行动。充分利用好超大规模城市海量数据资源,建设城市全要素数据资源体系,支撑城市治理全方位变革。主要包括:建设新一代高性能计算设施,打造超大规模人工智能计算与赋能平台。建设政务服务“一网通办”和社会治理“一网统管”基础支撑平台,探索建设数字孪生城市。构建医疗大数据训练设施,支持人工智能企业开展深度学习等多种算法训练试验。探索建设临港新片区互联设施体系和长三角一体化示范区智慧大脑工程。

4、“新终端”建设行动。围绕培育新经济、壮大新消费等需求,加快推动商贸、交通、物流、医疗、教育等终端基础设施智能化改造。主要包括:规模化部署千万级社会治理神经元感知节点;新建10万个电动汽车智能充电桩;建设国内领先的车路协同车联网和智慧道路;建成市级公共停车信息平台;拓展智能末端配送设施,推动智能售货机、无人贩卖机、智慧微菜场、智能回收站等各类智慧零售终端加快布局;建设互联网+医疗基础设施;培育教育信息化应用标杆学校;打造智能化“海空”枢纽设施;完善城市智慧物流基础设施建设。

四是推出8项上海版“新基建”重大政策措施。推进上海特色“新基建”,政府要引导、市场是主体、重大政策举措是保障。进一步加强市区协同,在创新支持方式、加强指标保障、推动资源开放、优化规划布局、完善规则标准、培育市场需求等方面加强引导,为社会资金加大“新基建”投入营造良好环境。

下一步,上海将全力落实好“新基建”35条,抢抓新型基础设施建设为产业复苏升级带来的重要机遇,高水平推进5G等“新网络”建设,持续保持“新设施”国际竞争力,加快建设人工智能等“新平台”,完善社会治理和民生服务“新终端”布局,着力创造新供给、激发新需求、培育新动能,为上海加快构建现代化产业体系厚植新根基,打造经济高质量发展新引擎。

来源:解放日报、上海市人民政府官网、中国上海门户网站

5、国家发改委答时代周报:支持有条件地方建设区域科技创新中心

创新是引领发展的第一动力,经济高质量发展要靠创新。下一步,国家发改委在推动构建创新创业创造新生态方面将有什么考虑?

对此问题,在9月24日上午的国家发改委召开惠企纾困专题新闻发布会上,国家发改委高技术司副司长朱建武在回答时代周报记者提问时表示,国家发改委将支持有条件地方建设区域科技创新中心,加快形成多层次、体系化的区域创新格局。
朱建武表示,今年以来,国家发改委强化创新高地引领带动,推动北京、上海、粤港澳大湾区三大国际科创中心建设,强化怀柔、张江、合肥、大湾区4个综合性国家科学中心核心支撑作用,“3 4”区域创新布局,为全国经济高质量发展发挥了强有力的引领带动作用。
在产业创新方面,今年国家发改委统筹推进战略性新兴产业发展,研究制定数字经济、生物经济“十四五”发展规划,前瞻谋划未来产业布局;顺利完成国家工程研究中心第一批优化整合工作,大幅提升产业共性技术研发能力;启动新一批国家企业技术中心认定工作,支持企业健全技术创新体系。
此外,在科技创新方面,针对在建的大设施,今年下达中央预算内投资60亿元,直接带动地方配套投资40亿元,间接带动社会研发投入数百亿元;支持中科院实施“率先行动”计划,加快科教基础设施建设;推进生物育种、集成电路装备材料、云计算装备等国家产业创新中心建设,打造产业链协同创新“国家队”。
朱建武表示,下一步,国家发改委将机制化推进国际科创中心和综合性国家科学中心建设,推动重大项目、重大政策、重大改革加快落地;支持有条件地方建设区域科技创新中心,加快形成多层次、体系化的区域创新格局;务实抓好全面创新改革,努力打造科技创新“小岗村”式的制度性成果。
同时,国家发改委将进一步提升创新平台建设的放大作用,聚焦战略性领域,加快国家产业创新中心布局建设,完成国家工程研究中心优化整合,新认定一批国家企业技术中心,放大创新平台体系的整体效应,强化产业共性技术研发,保障产业链供应链安全稳定。

6、上海集成电路制造创新中心有限公司怎么样?

上海集成电路制造创新中心有限公司是2018-01-16在上海市注册成立的有限责任公司(国有控股),注册地址位于中国(上海)自由贸易试验区碧波路690号401-23室。

上海集成电路制造创新中心有限公司的统一社会信用代码/注册号是91310115MA1K40GC95,企业法人桂永浩,目前企业处于开业状态。

上海集成电路制造创新中心有限公司的经营范围是:集成电路领域内的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让,集成电路的设计、研发、销售,从事货物及技术的进出口业务。【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】。本省范围内,当前企业的注册资本属于一般。

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7、国内集成电路行业,目前的情况怎么样?前景如何?

我这里有一份。要的话可以给你发一份。

2011 年 1月 2日
中国集成电路产业发展现状 中国集成电路产业发展现状 集成电路产业发展
关键词:中国集成电路现状
集成电路产业是知识密集、技术密集和资金密集型产业,世界集成电路产业发 展迅速,技术日新月异。2003年前中国集成电路产业无论从质还是从量来说都不 算发达, 但伴随着全球产业东移的大潮, 中国的经济稳定增长, 巨大的内需市场, 以及充裕的人才,中国集成电路产业已然崛起成为新的世界集成电路制造中心。 二十一世纪, 我国必须加强发展自己的电子信息产业。 它是推动我国经济发展, 促进科技进步的支柱,是增强我国综合实力的重要手段。作为电子信息产业基 础的集成电路产业必须优先发展。只有拥有坚实的集成电路产业,才能有力地 支持我国经济、军事、科技及社会发展第三步发展战略目标的实现。
一、我国集成电路产业发展迅速 1998 年我国集成电路产量为 22.2 亿块,销售规模为 58.5 亿元。 到 2009 年,我国集成电路产量为 411 亿块,销售额为 1110 亿元,12 年间产量 和销售额分别扩大 18.5 倍与 20 倍之多,年均增速分别达到 38.1%与 40.2%,销 售额增速远远高于同期全球年均 6.4%的增速。 二、 中国集成电路产业重大变化 2008年是中国集成电路产业发展过程中出现重大变化的一年。 全球金融危机不 仅使世界半导体市场衰退,同时也使中国出口产品数量明显减少,占中国出口总 额1/3左右的电子信息产品增速回落,其核心部件的集成电路产品的需求量相应 减少。 人民币升值也是影响产业发展的一个不可忽视的因素, 因为在目前国内集成电 路产品销售额中直接出口占到70%左右, 人民币升值对于以美元为结算货币的出 口贸易有着重要影响,人民币兑美元每升值1%,国内集成电路产业整体销售额 增幅将减少1.2到1.4个百分点,在即将到来的2011年里,人民币加速升值值得关 注。 三、中国集成电路产品产销概况 中国集成电路产品产销概况 中国集 2008年中国集成电路产业在产业发展周期性低谷呈现出增速逐季递减状态, 全年 销售总额仅有1246.82亿元,比2007年减少了0.4%,出现了未曾有过的负增长局 面;全年集成电路产量为417.14亿块,较2007年仅增长了1.3%。近几年我国集成 电路产品产量和销售额的情况如图1和图2所示:
图1 2003—2008年中国集成电路产品产量增长情况
图2 2003—2008年中国集成电路产品销售额增长情况 由上图可知,最近几年我国集成电路产品销售额虽逐年上升,但上升的速度却 缓慢,这是因为在国务院18号文件颁布后的五年中,中国集成电路产业的产品销 售额一直以年均增长率30%以上的速度上升, 是这个时期世界集成电路增长速度 的3倍,是一种阶段性的超高速发展的状态;一般情况下,我国集成电路产业年 均增长率能保持在世界增长率的1.5倍左右已属高速发展,因此,在2007年以后, 我国集成电路产业的年增长速度逐步减缓应属正常势态, 在世界集成电路产业周 期性低谷阶段,20%左右的年增长率仍然是难得的高速度。世界经济从美国次贷 危机开始逐步向全世界扩展,形成金融危机后又向经济实体部门扩散,从2008
年开始对中国集成电路产业产生影响,到第三季度国际金融危机明显爆发后,中 国集成电路产业销售额就出现了大幅度下滑,形成了第四季度的跳水形态。图3 是这个变化过程。
图3 2006Q1-2008Q4中国集成电路产品销售收入及同比(季期)增长率 中国集成电路产业的发展得益于产业环境的改善, 抵御金融危机的影响政策 十分显著。2008年1月,财政部和国家税务总局发布了《关于企业所得税若干优 惠政策的通知》(财税〔2008〕1号),对集成电路企业所享受的所得税优惠十分 重视。日前通过的《电子信息产业调整和振兴规划》 ,又把“建立自主可控的集成 电路产业体系”作为未来国内信息产业发展的三大重点任务之一,在五大发展举 措中明确提出“加大投入,集中力量实施集成电路升级”。2005年由国务院发布的 《国家中长期科学和技术发展规划纲要 (2006━2020年)》(国发[2005]44号),确定 并安排了16个国家重大专项,其中把“核心电子器件、高端通用芯片及基础软件 产品”与“超大规模集成电路制造装备及成套工艺”列在多个重大专项的前两位; 2008年4月国务院常务会议已审议并原则通过了这两个重大专项的实施方案,为 专项涉及的相关领域提供了良好的发展契机。 中国各级政府对集成电路产业发展 的积极支持和相关政策的不断落实, 对我国集成电路产业的发展产生了积极的影 响。 四、中国集成电路产品需求市场 近些年来,随着中国电子信息产品制造业的迅速发展,在中国市场上对集成 电路产品的需求呈现出飞速发展的势态,并成为全球半导体行业的关注点,即使 中国集成电路产品的需 在国内外半导体产业陷入低迷并出现了负增长的2008年,
求市场仍保持着增长的势头, 这是由中国信息产品制造业的销售额保持着10%以 上的正增长率所决定的。 中国最近几年的集成电路产品市场需求额变化情况如图 4所示。
图4 2004-2008年中国集成电路市场需求额 五、我国集成电路产业结构 设计、制造和封装测试业三业并举,半导体设备和材料的研发水平和生产能 力不断增强,产业链基本形成。随着前几年 IC 设计业和芯片制造业的加速发展, 设计业和芯片制造业所占比重逐步上升,国内集成电路产业结构逐渐趋于合理。 2006年设计业的销售额为186.2亿元, 比2005年增长49.8%; 2007年销售额为225.7 亿元,比2006年增长21.2%。芯片制造业2006年销售额为323.5亿元,比2005年增 长了38.9%; 2007年销售额为397.9亿元, 比2006年增长又23.0%。 封装测试业2006 年销售额为496.6亿元,比2005年增长43.9%;2007年销售额为627.7亿元,比2006 年增长26.4%。2001年我国设计业、芯片制造业、封测业的销售额分别为11亿元、 27.2亿元、161.1亿元,分别占全年总销售额的5.6%、13.6%、80.8%,产业结构 不尽合理。 最近5年来, 在产业规模不断扩大的同时,IC 产业结构逐步趋于合理, 设计业和芯片制造业在产业中的比重显著提高。到2007年我国 IC 设计业、芯片 制造业、封测业的销售额分别为225.5亿元、396.9亿元、627.7亿元,分别占全年 总销售额的18.0%、31.7%、50.2%。 半导体设备材料的研发和生产能力不断增强。 在设备方面, 65纳米开始导入生产, 中芯国际与 IBM 在45纳米技术上开展合作,FBP(平面凸点式封装)和 MCP(多
芯片封装)等先进封装技术开发成功并投入生产,自主开发的8英寸100纳米等离 子刻蚀机和大角度离子注入机、12英寸硅片已进入生产线使用。在材料方面,已 研发出8英寸和12英寸硅单晶,硅晶圆和光刻胶的国内生产能力和供应能力不断 增强。
但是2008年,国内集成电路设计、芯片制造与封装测试三业均不同程度的受 到市场低迷的影响,其中芯片制造业最明显,全年芯片制造业规模增速由2007 年的23%下降到-1.3%,各主要芯片制造企业均出现了产能闲置、业绩下滑的情 况;封装测试业普遍订单下降、开工率不足,全年增幅为-1.4%;集成电路设计 业也受到国内市场需求增长放缓的影响, 由于重点企业在技术升级与产品创新方 面所做的努力部份地抵御了市场需求不振所带来的影响, 全年增速仍保持在正增 长状态,为4.2%,高于国内集成电路产业的整体增幅。如图5所示。
图5 2008年中国集成电路产业基本结构
六、集成电路技术发展 集成电路技术发展 我国技术创新能力不断提高,与国外先进水平差距不断缩小。从改革开放之初 的 3 英寸生产线,发展到目前的 12 英寸生产线,IC 制造工艺向深亚微米挺进, 封装测试水平从低端迈向中 研发了不少工艺模块, 先进加工工艺已达到 100nm。 高端,在 SOP、PGA、BGA、FC 和 CSP 以及 SiP 等先进封装形式的开发和生产
方面取得了显著成绩。IC 设计水平大大提升,设计能力小于等于 0.5 微米企业比 例已超过 60%,其中设计能力在 0.18 微米以下企业占相当比例,部分企业设计 水平已经达到 100nm 的先进水平。设计能力在百万门规模以上的国内 IC 设计企 业比例已上升到 20%以上,最大设计规模已经超过 5000 万门级。相当一批 IC 已投入量产,不仅满足国内市场需求,有的还进入国际市场。 总之,集成电路产业是信息产业和现代制造业的核心战略产业,其已成为一些 国家信息产业的重中之重。 2011年我国集成电路产业的发展将勉励更好的发展环 境,国家政府的支持力度将进一步增加,新的扶植政策也会尽快出台,支持研发 的资金将会增多,国内市场空间更为广阔,我国集成电路产业仍将保持较快的发 展速度,占全球市场份额比重必会进一步增大!! !
附录: 附录: 中国集成电路产业发展大事记(摘自网络) 中国集成电路产业发展大事记(摘自网络) 1947 年,美国贝尔实验室发明了晶体管。 1956 年,中国提出“向科学进军”,把半导体技术列为国家四大紧急措施 之一。 1957 年,北京电子管厂通过还原氧化锗,拉出了锗单晶。中国科学院应用 物理研究所和二机部十局第十一所开发锗晶体管。当年,中国相继研制出锗点接 触二极管和三极管(即晶体管) 。 1959 年,天津拉制出硅(Si)单晶。 1962 年,天津拉制出砷化镓单晶(GaAs) ,为研究制备其他化合物半导体打 下了基础。 1962 年,我国研究制成硅外延工艺,并开始研究采用照相制版,光刻工艺。 1963 年,河北省半导体研究所制成硅平面型晶体管。 1964 年,河北省半导体研究所研制出硅外延平面型晶体管。 1965 年 12 月,河北半导体研究所召开鉴定会,鉴定了第一批半导体管,并 在国内首先鉴定了 DTL 型(二极管――晶体管逻辑)数字逻辑电路。1966 年底, 在工厂范围内上海元件五厂鉴定了 TTL 电路产品。 这些小规模双极型数字集成电 路主要以与非门为主,还有与非驱动器、与门、或非门、或门、以及与或非电路 等。标志着中国已经制成了自己的小规模集成电路。 1968 年,组建国营东光电工厂(878 厂) 、上海无线电十九厂,至 1970 年建 成投产,形成中国 IC 产业中的“两霸”。 1968 年,上海无线电十四厂首家制成 PMOS(P 型金属-氧化物半导体)电 路(MOSIC) 。拉开了我国发展 MOS 电路的序幕,并在七十年代初,永川半导体研 究所(现电子第 24 所) 、上无十四厂和北京 878 厂相继研制成功 NMOS 电路。之
后,又研制成 CMOS 电路。 七十年代初,全国掀起了建设 IC 生产企业的热潮,共有四十多家集成电路 工厂建成。 1972 年,中国第一块 PMOS 型 LSI 电路在四川永川半导体研究所研制成功。 1973 年,我国 7 个单位分别从国外引进单台设备,期望建成七条 3 英寸工 艺线,最后只有北京 878 厂,航天部陕西骊山 771 所和贵州都匀 4433 厂。 1976 年 11 月,中国科学院计算所研制成功 1000 万次大型电子计算机,所 使用的电路为中国科学院 109 厂(现中科院微电子中心)研制的 ECL 型(发射极 耦合逻辑)电路。 1982 年,江苏无锡的江南无线电器材厂(742 厂)IC 生产线建成验收投产, 这是中国第一次从国外引进集成电路技术。 1982 年 10 月,国务院为了加强全国计算机和大规模集成电路的领导,成立 了以万里副总理为组长的“电子计算机和大规模集成电路领导小组”, 制定了中 国 IC 发展规划,提出“六五”期间要对半导体工业进行技术改造。 1983 年,针对当时多头引进,重复布点的情况,国务院大规模集成电路领 导小组提出“治散治乱”, 集成电路要“建立南北两个基地和一个点”的发展战 略,南方基地主要指上海、江苏和浙江,北方基地主要指北京、天津和沈阳,一 个点指西安,主要为航天配套。 1986 年,电子部厦门集成电路发展战略研讨会,提出“七五”期间我国集 成电路技术“531”发展战略,即普及推广 5 微米技术,开发 3 微米技术,进行 1 微米技术科技攻关。 1989 年 2 月,机电部在无锡召开“八五”集成电路发展战略研讨会,提出 了“加快基地建设,形成规模生产,注重发展专用电路,加强科研和支持条件, 振兴集成电路产业”的发展战略。 1989 年 8 月 8 日, 厂和永川半导体研究所无锡分所合并成立了中国华晶 742 电子集团公司。 1990 年 10 月,国家计委和机电部在北京联合召开了有关领导和专家参加的座谈 会,并向党中央进行了汇报,决定实施九 O 八工程。 1995 年,电子部提出“九五”集成电路发展战略:以市场为导向,以 CAD 为突破口,产学研用相结合,以我为主,开展国际合作,强化投资,加强重点工 程和技术创新能力的建设,促进集成电路产业进入良性循环。 1995 年 10 月,电子部和国家外专局在北京联合召开国内外专家座谈会,献 计献策,加速我国集成电路产业发展。11 月,电子部向国务院做了专题汇报, 确定实施九 0 九工程。 1997 年 7 月 17 日, 由上海华虹集团与日本 NEC 公司合资组建的上海华虹 NEC 电子有限公司组建,总投资为 12 亿美元,注册资金 7 亿美元,华虹 NEC 主要承 担“九 0 九”工程超大规模集成电路芯片生产线项目建设。 1998 年 1 月 18 日,“九 0 八” 主体工程华晶项目通过对外合同验收,这 条从朗讯科技公司引进的 0.9 微米的生产线已经具备了月投 6000 片 6 英寸圆片 的生产能力。 1998 年 1 月,中国华大集成电路设计中心向国内外用户推出了熊猫 2000 系 统,这是我国自主开发的一套 EDA 系统,可以满足亚微米和深亚微米工艺需要, 可处理规模达百万门级,支持高层次设计。 1998 年 2 月 28 日,我国第一条 8 英寸硅单晶抛光片生产线建成投产,这个
项目是在北京有色金属研究总院半导体材料国家工程研究中心进行的。 1998 年 4 月,集成电路“九 0 八”工程九个产品设计开发中心项目验收授 牌,这九个设计中心为信息产业部电子第十五研究所、信息产业部电子第五下四 研究所、上海集成电路设计公司、深圳先科设计中心、杭州东方设计中心、广东 专用电路设计中心、兵器第二一四研究所、北京机械工业自动化研究所和航天工 业 771 研究所。这些设计中心是与华晶六英寸生产线项目配套建设的。 1998 年 3 月,由西安交通大学开元集团微电子科技有限公司自行设计开发 的我国第一个-CMOS 微型彩色摄像芯片开发成功,我国视觉芯片设计开发工作取 得的一项可喜的成绩。 1999 年 2 月 23 日,上海华虹 NEC 电子有限公司建成试投片,工艺技术档次 从计划中的 0.5 微米提升到了 0.35 微米,主导产品 64M 同步动态存储器(S- DRAM) 这条生产线的建-成投产标志着我国从此有了自己的深亚微米超大规模集 。 成电路芯片生产线。 2000 年 7 月 11 日,国务院颁布了《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若 干政策》 随后科技部依次批准了上海、西安、无锡、北京、成都、杭州、深圳 。 共 7 个国家级 IC 设计产业化基地。 2001 年 2 月 27 日, 直径 8 英寸硅单晶抛光片国家高技术产业化示范工程项 目在北京有色金属研究总院建成投产;3 月 28 日,国务院第 36 次常务会议通过 了《集成电路布图设计保护条例》 。 2002 年 9 月 28 日,龙芯 1 号在中科院计算所诞生。同年 11 月,中国电子 科技集团公司第四十六研究所率先研制成功直径 6 英寸半绝缘砷化镓单晶, 实现 了我国直径 6 英寸半绝缘砷化镓单晶研制零的突破。 2003 年 3 月 11 日,杭州士兰微电子股份有限公司上市,成为国内 IC 设计 第一股。 2006 年中星微电子在美国纳斯达克上市。随即珠海炬力也成功上市。 2007 年展讯通信在美国纳斯达克上市。 2008 年《集成电路产业“十一五”专项规划》重点建设北京、天津、上海、 苏州、宁波等国家集成电路产业园。

8、如何加快推进具有全球影响力的产业科技创新中心建设

1、科创中心“14+8”重大方向:上海市委市政府《关于加快建设具有全球影响力的科技创新中心的意见》第20条“实施一批重大战略项目,布局一批重大基础工程。服务国家战略,积极争取国家支持,重点推进民用航空发动机与燃气轮机、大飞机、北斗导航、高端处理器芯片、集成电路制造及配套装备材料、先进传感器及物联网、智能电网、智能汽车和新能源汽车、新型显示、智能制造与机器人、深远海洋工程装备、原创新药与高端医疗装备、精准医疗、大数据及云计算等一批重大产业创新战略项目建设。把握世界科技进步大方向,积极推进脑科学与人工智能、干细胞与组织功能修复、国际人类表型组、材料基因组、新一代核能、量子通信、拟态安全、深海科学等一批重大科技基础前沿布局”。
2、上海《十三五科辅禒滇溉鄄防殿狮东饯技创新规划》提出了“追求卓越创新、建设国家科技中心”的目标,分四个主题执行:“促进战略方向重大突破、促进科学研究自由探索、集聚一流科技创新人才、建设世界级设施与机构”,在“主题一”中提出了7个重大战略方向:脑科学与类脑人工智能、国际人类表型组、干细胞与组织功能修复、纳米科学与微纳制造、材料基因组、合成科学与生物创制、量子材料与量子通信。

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