1220專利
1、高硼硅玻璃和鋼化玻璃有什麼區別?
一、熱穩定性不同
高硼硅玻璃:具有非常低的熱膨脹系數,約是普通玻璃的三分之一。應變溫度:520 ℃;退火溫度:560 ℃;軟化溫度:820 ℃。
鋼化玻璃:具有良好的熱穩定性,能承受的溫差是普通玻璃的3倍,可承受300℃的溫差變化。
二、應用領域不同
高硼硅玻璃:被廣泛應用於太陽能、化工、醫葯包裝、電光源、工藝飾品等行業。
鋼化玻璃:廣泛應用於高層建築門窗、玻璃幕牆、室內隔斷玻璃、採光頂棚、觀光電梯通道、傢具、玻璃護欄等。
(1)1220專利擴展資料:
鋼化玻璃的發展歷史:
鋼化玻璃的發展最初可以追溯到17世紀中期,有一位叫羅伯特的萊茵國王子,曾經做過了一個有趣的實驗,他把一滴熔融的玻璃液放在冰冷的水裡,結果製成了一種極堅硬的玻璃。
玻璃鋼化的第一個專利於1874年由法國人獲得,鋼化方法是將玻璃加熱到接近軟化溫度後,立即投入一溫度相對低的液體槽中,使表面應力提高。這種方法即是早期液體鋼化方法。
20世紀30年代,法國的聖戈班公司和美國的特立普勒克斯公司,以及英國的皮爾金頓公司都開始生產供給汽車作擋風用的大面積平板鋼化玻璃。日本在20世紀30年代也相繼進行了鋼化玻璃工業生產。從此世界開始了大規模生產鋼化玻璃的時代。
2、插拔力試驗機
是東莞市毫克檢測儀器有限公司生產的。有專利號,可從國際知識產權局官方網站查詢得到
具體為如下
機器規格
測試荷重種類;2kgf、500gf(任選1個)
最小顯示荷重:0.01gf
最大測試行程:100mm
最小顯示行程:0.01mm、0.001mm(選購)
測定速度范圍:0-100mm/min
傳 動 機 構:滾珠螺桿
驅 動 馬 達:伺服馬達
本機器適用於各種按鍵及開關之(荷重-行程)曲線測試,利用WINDOWS中文視窗畫面設定,操作簡單方便,且所有資料皆可儲存(試驗條件、荷重曲線圖、測試結果、檢查報表…等等).本機器採用伺服馬達傳動,可提供高精度之(荷重-行程)測定,及可得到完全准確之按鍵及開關曲線試驗. (專利號:200620061119.0可登陸國家知識產權局官方網站專利檢索中查詢)
機器特點:※Peak Force、ReturnForce、Distance及Click率等皆可直接在圖上顯示數值,不須人工計算。
※ 量測曲線圖由電腦記憶,可隨時放大、縮小,一張A4紙可任意指定放置N個曲線圖。
※ 測定項目可輸入上、下限規格值,測定結果可自動判定OK或NO。
※ 可輸入最大測定行程及荷重,電腦自動控制。
※ 荷重單位顯示N、Ib、gf、kgf可自由切換
※ 電腦直接列印及儲存荷重-行程曲線圖、檢查報表。(不需要方格紙,一般A4紙即可)
※ 測試資料儲存於硬碟(每一筆資料皆可儲存,不限次數)
※ 測試條件皆由電腦畫面設定(含測試行程、速度、次數、空壓、暫停時間等等)
※ 檢驗報表抬頭內容可隨時修改(中英文皆可)
※ 檢驗報表可自動產生,不須再作輸入。
※ 檢驗報表可轉換為Excel等文書報表格式。
3、吸收光譜的吸收光譜分類
化學分析儀器即AAS。
儀器之一介紹:
珀金埃爾默公司由珀金·理查德和埃爾默·查理斯於1937年4月創立,很快成為美國精密光學儀器的主要供應商,1944年成功推出世界上第一台商用紅外光光度計-12型,這項新技術就是現代化學分析基本手段的鼻祖。1955年5月,珀金埃爾默公司推出世界上第一台商用氣相色譜儀-154型。1957年匹茲堡會議上,公司推出世界首台雙光束紅外光譜儀137型。與此同時,珀金埃爾默公司成為世界上第一家進入國際市場的科學儀器製造商。 60年代珀金埃爾默公司以其研製的世界第一台原子吸收分析儀-AA303型占據了世界分析儀器行業領先地位。1972年,公司進入液色相譜市場,成功地推出最早的帶梯度泵的液色相譜儀1220型。1975年,公司最早將微機技術引入460型AAS,使分析更輕松更有效。
數十年來,PerkinElmer公司以當今世界最新的科學技術,在原子光譜儀器與分析技術的發展領域中,始終處於世界領先地位。從世界上第一台雙光束原子吸收光譜儀的問世到第一台商品石墨爐的推出,從橫向交變磁場到縱向交變磁場塞曼背景校正;從縱向加熱石墨爐到橫向加熱無溫度梯度石墨爐;從單道掃描ICP到全譜ICP;從ICP到ICP-MS;從光電倍增管到半導體固態檢測器。跨越一個又一個里程碑。這累累碩果,已為遍布全球的成千上萬個實驗室所分享,有力地推動了原子光譜分析技術的發展。PerkinElmer公司將繼續保持這一技術優勢,以更多更先進的精良儀器為分析工作者提供更加優秀的服務。
在AAS的發展過程中,PerkinElmer公司形成了一系列的專利技術,確保了在AAS領域的領先地位。
完美的STPF石墨爐系統:AAnalyst配備有Massmann型石墨爐(HGA)和高強度的連續光源校正裝置,這種經過全球上千個實驗室工作檢驗的石墨爐系統具有極高的性能價格比。
AAnalyst600/800在採用橫向加熱技術石墨爐(THGA)的同時,相應地採用了獨特的縱向Zeeman效應背景校正,組成了當今世界上最完美的石墨爐系統,它的無可比擬的優異性能適合於追求極低的檢出限、分析基體特別復雜的樣品、要求校正結構背景的使用者。
HGA和THGA石墨爐系統都使用一體化平台石墨管,這種性能極其優越的石墨管由單塊的高強度石墨經過精密的機械加工而成,管和平台都有熱解塗層,所有元素—包括高溫元素都能在平台上(STPF條件下)進行原子化。由於平台是圓弧形的,一次進樣的最大體積可達50微升,可進一步降低檢出限。 石墨爐系統使用了PerkinElmer獲得專利的TTC(真實溫度控制)技術。儀器獨特的反饋控制系統每隔10毫秒檢測一次石墨爐的各個重要參數,包括石墨管兩端的電壓、石墨管的電阻,石墨管的發射和冷卻溫度。並與參比數據對比,據此對加在石墨管上的電源自動、快速作出調整,保證無論您使用哪一台儀器,是今天還是明天,都能得到恆定的、重復性特別好的數據。
革命性的實時雙光束光學系統 新穎、獨特的「實時」雙光束系統,只使用一塊半透半反鏡,不需要機械斬波器,免除機械雜訊對儀器帶來不良的影響。樣品光束和參比光束同時通過單色器並在完全相同的時間進行測量,有效地增加了積分時間而不增加測量時間,進一步提高讀數的穩定性,大大提高了信噪比。PerkinElmer公司的這種設計劃分出了實時雙光束與交替雙光束的不同時代。
性能優越的新型固態檢測器帶有低雜訊CMOS電荷放大器的最優化固態檢測器,其光敏表面能在紫外區和可見區提供最大的量子效率和靈敏度,具有極好的信噪比。即使象As和Ba這樣通常較難測定的元素也能以極高的信噪比進行輕松自如的日常分析。
技術參數
* 波長范圍: 189-900nm
* 全面兼容國產的氫化物發生器和國產燈,Winlab 32軟體可以用峰面積進行計算,也可以使用峰高進行計算,利用國產的氫化物發生器和國產的As燈測量砷的標准曲線,砷的標准溶液濃度分別為2、4、6ppb,線性系數優於0.9999。
* FIFU功能:具有FIAS與石墨爐聯用的功能,可對元素進行全自動的在線預濃縮。氫化物發生過程不受還原速度的影響,樣品無需事先還原即可直接進行分析。As(V)、Sb(V)、Se(IV)和Hg(II)等直接分析的檢出限為ppt量級。
主要特點
1. 狹縫:狹縫的寬度自動選擇,狹縫的高度自動選擇。
2. 檢測器:全譜高靈敏度陣列式多象素點CCD固態檢測器,含有內置式低雜訊CMOS電荷放大器陣列。樣品光束和參比光束同時檢測。
3. 燈選擇:內置兩種燈電源,可連接空心陰極燈和無極放電燈;通過WinLab32軟體由計算機控制燈的選擇和自動準直,可自動識別燈名稱和設定燈電流推薦值。
燃燒系統:可調式通用型霧化器,高強度惰性材料預混室,全鈦燃燒頭。
排液系統:排液系統前置以利於隨時檢測
4. 火焰進樣系統:火焰系統具有懸浮液直接進樣功能,可以直接分析懸浮奶粉等,並有實際應用。
5. 石墨爐: 內、外氣流由計算機分別單獨控制。管外的保護氣流防止石墨管被外部空氣氧化。從而延長管子壽命,內部氣流則將乾燥和灰化步驟氣化的基體成份清出管外。石墨爐的開、閉為計算機氣動控制以便於石墨管的更換。
6. 電源:石墨爐電源內置,整個儀器為一個整體。
溫度控制 紅外探頭石墨管溫度實時監控,具有電壓補償和石墨管電阻變化補償功能。
7. 石墨管:標准配置為一體化平台(STPF)熱解塗層石墨管
8. 石墨爐進樣系統:石墨爐進樣系統具有懸浮液直接進樣功能,可以直接分析果酒、果汁、食用植物油、懸浮奶粉等,並有實際應用。
9. 聯用:無論火焰還是石墨爐,均具有與FIAS、FIMS、氣相色譜(GC)、液相色譜(HPLC)、熱分析(TA)等儀器聯用的功能和介面。FIAS與紫外聯用,具有亞硝酸根、氨基酸的分析功能。具有間接法分析硫酸根、磷酸根、氯離子的能力。 一、分子吸收光譜的產生
(一)分子能級與電磁波譜
分子中包含有 原子和電子,分子、原子、電子都是運動著的物質,都具有能量,且 都是量子化的。在一定的條件下,分子處於一定的運動狀態,物質分子內部運動狀態有三種形式:
①電子運動:電子繞原子核作相對運動;
②原子運動:分子中原子或原子團在其平衡位置上作相對振動;
③分子轉動:整個分子繞其重心作旋轉運動。
所以:分子的能量總和為
E分子 = Ee +Ev +Ej +⋯ (E0 +E平) (3)
分子中各種不同運動狀態都具有一定的能級。三種能級:電子能級 E(基態 E1 與激發態 E2)
振動能級 V= 0,1,2,3 ⋯
轉動能級 J = 0,1,2,3 ⋯
當分子吸收一個具有一定能量的光量子時,就有較低的能級基態能級 E1 躍遷到較高的能級及激發態能級 E2 ,被吸收光子的能量必須與分子躍遷前後的能量差∆E 恰好相等,否則不能被吸收。
圖1 雙原子分子的三種能級躍遷示意圖 對多數分子 對應光子波長 光 譜 ∆E 約為1~20eV 1.25 ~ 0.06㎛ 紫外、可見區(電子)
∆E 約為0.5~1eV 25 ~ 1.25㎛ (中)紅外區 (振動)
∆E約為10-4~0.05eV 1.25cm~ 25㎛ (遠)紅外區(轉動) 分子的能級躍遷是分子總能量的改變。當發生電子能級躍遷時,則同時伴隨有振動能級和轉動能級的改變,即 「電子光譜」——均改變。
因此,分子的「電子光譜」 是由許多線光譜聚集在一起的帶光譜組成的譜帶,稱為「帶狀光譜」。
由於各種物質分子結構不同,對不同能量的光子有選擇性吸收。吸收光子後產生的吸收光譜不同。利用物質的光譜進行物質分析的依據。
二、紫外-可見吸收光譜與有機分子結構的關系
(一)電子躍遷的類型
許多有機化合物能吸收紫外-可見光輻射。有機化合物的紫外-可見吸收光譜主要是由分子中價電子的躍遷而產生的。
分子中的價電子有:
成 鍵 電 子: s 電子、p 電子(軌道上能量低)
未成鍵電子: n 電子( 軌道上能量較低)
這三類電子都可能吸收一定的能量躍遷到能級較高的反鍵軌道上去。分子中價電子躍遷:
1. s - s* 躍遷
s-s*的能量差大,所需能量高,吸收峰在遠紫外 (l<150nm)
飽和烴只有s 、s* 軌道,只能產生s - s*躍遷,例如:
甲烷 吸收峰在 125nm;乙烷 吸收峰在 135nm ( < 150nm )
( 因空氣中O2對< 150nm輻射有吸收,定量分析時要求實驗室有真空條件,要求一般難達到)
2. p-p* 躍遷
p-p*能量差較小,所需能量較低,吸收峰紫外區 (l200nm左右)
不飽和烴類分子中有p電子,也有p* 軌道,能產生p-p*躍遷:CH2=CH2 ,吸收峰 165nm。(吸收系數 e 大,吸收強度大,屬於強吸收)
3. n- s*躍遷
n- s* 能量較低,收峰紫外區 (l 200nm左右) (與p-p*接近)
含有雜原子團如:-OH,-NH2 ,-X,-S 等的有機物分子中除能產生。
s-s* 躍遷外,同時能產生n- s *躍遷,例如:三甲基胺 (CH3)3N- 的 n- s* 吸收峰在 227 nm, e 約為900 L/mol·cm ,屬於中強吸收。
4. n- p*躍遷
n- p*能量低,吸收峰 在 近紫外、可見區 (l 200 ~ 700nm)含有雜原子的不飽和基團,如 -C=O等,例如: 丙酮: n- p*躍遷, lmax 280nm左右(同時也可產生p-p*躍遷),屬於弱吸收, e < 500 L/mol·cm 。
各種躍遷所需能量大小次序為: s - s* > n- s* ³ p-p* > n- p*
紫外-可見吸收光譜法在有機化合物中應用主要以:p-p* 、n- p* 為基礎。
(二)吸收峰的長移和短移
長移:吸收峰向長λ 移動的現象,又稱紅移;
短移:吸收峰向短λ移動的現象,又稱紫移;
增強效應:吸收強度增強的現象;
減弱效應:吸收強度減弱的現象。
(三)發色團和助色團
p-p* 、n- p*躍遷都需要有不飽和的官能團以提供 p 軌道,因此,軌道的存在是有機化合物在紫外-可見區產生吸收的前提條件。
1.發色團:具有 p 軌道的不飽和官能團稱為發色團。
主要有: -C=O,-N=N-, -N=O等。
但是,只有簡單雙鍵的化合物生色作用很有限,其有時可能仍在遠紫外區,若分子中具有單雙鍵交替的 「共軛大p鍵」 (離域鍵)時,
如: 丁二稀 CH2=CH—CH=CH2
由於大p鍵中的電子在整個分子平面上運動,活動性增加,使 p與 p* 間的能量差減小,使 p- p* 吸收峰長移,生色作用大大增強。
2. 助色團
本身不「生色」,但能使生色團生色效應增強的官能團 ——稱為助色團
主要有: – OH、 –NH2、 –SH、 –Cl、 –Br 等
(具有未成鍵電子軌道 n 的飽和官能團)
當這些基團單獨存在時一般不吸收紫外-可見區的光輻射。但當它們與具有軌道的生色基團相結合時,將使生色團的吸收波長長移(紅移), 且 使吸收強度增強。
(助色團至少要有一對與生色團 p 電子作用的孤對電子) 一、紫外吸收光譜的產生
吸光物質分子吸收特定能量(波長)的電磁波(紫外光)產生分子的電子能級躍遷。
二、電子躍遷類型
1. 分子軌道
有機分子中常見的分子軌道:
σ軌道、π軌道和非鍵軌道 (未共用電子對n)
分子軌道圖:
2. 電子躍遷(transition)類型
(1)σ~σ*躍遷:
由飽和鍵產生,能級差大,吸收光波波長短,吸收峰多處於真空紫外區。
(2)n~ σ*躍遷:
含N, O, S, X的化合物中,吸收帶較弱。
CH3OH CH3Cl CH3Br CH3I
λmax 177 173 202 257
εmax 200 264 378 900
(3) π~π*躍遷:
不飽和化合物,尤其是存在共軛體系的化合物。
εmax較大,λmax較大。
(4) n~ π*躍遷:
含π鍵和 n 電子的體系。
λmax較大,εmax較小。
能級躍遷圖:
三、吸收帶(bands)
1. R吸收帶(Radikalartin):由n→π*躍遷產生,強度弱, log 1
2. K吸收帶(Konjugierte):由π→π*躍遷產生,強度強, log > 4
3. B吸收帶(Benzenoid):苯環π→π*躍遷產生,230-270nm,中心在254nm處,寬而弱,有精細結構,是苯環的特徵吸收
4. E吸收帶(Ethylenic):芳環中碳碳雙鍵π→π*躍遷產生,在184(E1)和203(E2)nm處。
四、有關術語
1. 發色團(chromophore)
C=C、C=O、COOH、COOR、NO2、N=N、芳基等含有p電子的基團。
2. 助色團(auxochrome) OH、OR、X、NH2、NO2、SH等含有n電子的基團,與發色團相連可使最大吸收波長紅移。
3. 紅移(red shift or bathochromic shift)
最大吸收波長向長波移動。
4. 蘭移(blue shift or hypsochromic shift)
最大吸收波長向短波移動。
5.增色效應:使吸收帶的吸收強度增加的效應
6.減色效應:使吸收帶的吸收強度降低的效應
常見生色團和助色團
影響紫外吸收光譜的因素
躍遷的類型
發色團和助色團的影響
樣品溶液濃度的影響
共軛體系的形成使吸收紅移
空間效應:空間位阻,
外部因素:溶劑效應 ,PH值影響。
4、不銹鋼材質檢驗標准
不銹鋼制材質檢驗標准:光普儀檢測化學成份達到98%以上(包含98%)的產品為合格品。
不銹鋼材就是不容易生銹的鋼材,實際上一部分不銹鋼材,既有不銹性,又有耐酸性(耐蝕性)。
不銹鋼材的不銹性和耐蝕性是由於其表面上富鉻氧化膜(鈍化膜)的形成。這種不銹性和耐蝕性是相對的。試驗表明,鋼材在大氣、水等弱介質中和硝酸等氧化性介質中,其耐蝕性隨鋼材中鉻含量的增加而提高,當鉻含量達到一定的百分比時,鋼材的耐蝕性發生突變,即從易生銹到不易生銹,從不耐蝕到耐腐蝕。
擴展材料:
不銹鋼的發明和使用,要追溯到第一次世界大戰時期。英國科學家亨利·布雷爾利受英國政府軍部兵工廠委託,研究武器的改進工作。那時,士兵用的步槍槍膛極易磨損,布雷爾利想發明一種不易磨損的合金鋼。布雷爾利發明的不銹鋼於1916年取得英國專利權並開始大量生產,至此,從垃圾堆中偶然發現的不銹鋼便風靡全球,亨利·布雷爾利也被譽為「不銹鋼之父」。
不銹鋼的耐蝕性隨含碳量的增加而降低,因此,大多數不銹鋼的含碳量均較低,最大不超過1.2%,有些鋼的ωc(含碳量)甚至低於0.03%(如00Cr12)。不銹鋼中的主要合金元素是Cr(鉻),只有當Cr含量達到一定值時,鋼材有耐蝕性。因此,不銹鋼一般Cr(鉻)含量至少為10.5%。不銹鋼中還含有Ni、Ti、Mn、N、Nb、Mo、Si、Cu等元素。
5、柯達1220掃描儀下紙張的速度好慢是怎麼回事啊,有哪些因素導致的,麻煩列舉下,謝謝
掃描儀速度慢的原因有兩個,一是掃描的分辯率過高;二是電腦處理的速度慢,或者是USB線經過HUB轉換成了1.0的傳輸速度也會很慢。
首先要確定你掃描的分辯率是多少,一般文檔200dpi就可以了,掃描照片或者更高要求的文檔就得300dpi或者更高。
再就是看你的電腦配置,現在一般的家用電腦,2G內存、2.3G的CPU基本上是沒有問題,你在掃描的時候看一下你電腦 Windows任務管理器 裡面的CPU和內存的佔用率,CPU要是達到了90%以上,那說明你的電腦處理能力太低,更換電腦可以解決。還有就是插電腦上面的U口是不是插到了1.0的口,一般使用HUB出現這樣的情況會大一些。
還有最要的一點,這個掃描儀是標準的twain介面,你選驅動類型的時候要選twain,用其它軟體調用的時候也是調twain源。
有什麼情況可以繼續問。
6、邊個知道在那個網址可以查到「以經申請專利產品」啊?? ?????/??
把所有資料防在網路上是一件巨大的工程,專利局還沒有資歷辦這樣的事,所以內你是不會找到容的!
但每個地區的專利資料都是免費對外開放的,你可以在114查一下,然後通過閱覽的方式找到你需要的東西!
其實網路上很多東西還不能找到和共享,有人做就要有人收費!
你可以把你的目的說的更直接些看能否幫上你!
7、關於申請專利
必須找有資質的單位或個人代你申請,如果你要申請專利,我介紹一家給你,我有十多項專利,這家又快又價底.
我QQ--530570529你可以到我的個人主頁去看看.
http://vvnao.51aj.com/
8、發達國家 的人均發明專利擁有量是多少
歐美日這些發達國家,每萬人發明專利擁有量都在30件以上。
9、國家知識產權局專利復審委員會第12209號
去復審委網站上可以查到的
10、我想申請專利該怎麼辦呢
如何申請專利
專利制度是在市場經濟條件下保護專利的知識產權的一項制度。一項發明創造並不能自動得到專利保護,專利局也不能主動授予專利權,必須由有權提出專利申請的人,按照規定提交必要的申請文件,專利局接受申請後,經法定程序審查,對符合條件的才授予專利權。申請發明或者實用新型專利,應當提交請求書、說明書、權利要求書、說明書摘要和必要的附圖等文件。申請外觀設計專利,應提交請求書及該外觀設計的圖片或照片等文件。專利申請文件可以由申請人自己撰寫,也可以委託他人撰寫。由於申請專利事務是一項繁雜的法律事務,一般人不容易完成這項任務,申請人可以委託具有專利資格的代理人撰寫申請文件和辦理有關申請事務。委託專利代理機構的代理人申請專利和辦理申請事務的,應當同時提交委託書,寫明委託許可權,並按有關專利代理服務收費標准繳納代理服務費。
向專利局遞交專利申請文件時,可以直接面交專利局,也可以掛號郵寄專利局,還可以委託代理機構代理人辦理。
向專利局申請專利和辦理其他手續時,應當按照專利收費項目和標准繳納有關費用。各種費用可以直接向專利局繳納,也可以通過郵局或銀行匯付,還可以通過代理機構轉繳。
專利局收到符合規定的專利申請文件後,即發給申請人受理通知書,並註明其專利的申請日、申請號及其他事項。
申請專利須知
本須知依據《專利法》及《專利法實施細則》整理。是申請專利階段最基本要求。專利申請文件撰寫原則及申請被受理後的未盡事宜,應以《專利法》及《專利法實施細則》的相關規定為准。
一、三種不同類型專利的定義:
1.發明是指對產品、方法或者其改進所提出的新的技術方案。
2.實用新型是指對產品的形狀、構造或者其結合所提出的適於實用的新的技術方案。
3.外觀設計是指對產品的形狀、圖案或者其結合以及色彩與形狀、圖案的結合所作出的富有美感並適於工業應用的新設計。
二、申請專利所需文件及要求:
(一)請求書
請求書是確定發明、實用新型或外觀設計三種類型專利申請的依據,應謹慎選用;建議使用專利局統一表格。請求書應當包括發明、實用新型的名稱或使用該外觀設計產品名稱;發明人或設計人的姓名、申請人姓名或者名稱、地址(含郵政編碼)以及其他事項。
其他事項是指:
1.申請人的國籍;申請人是企業或其他組織的,其總部所在地的國家。
2.申請人委託專利代理機構的應當註明的有關事項。申請人為兩人以上或單位申請,而未委託代理機構的,應當指定一名自然人為代表人,並註明聯系人姓名、地址、郵政編碼及聯系電話。
3.分案專利申請(已駁回、撤回或視為撤回的申請,不能提出分案申請)類型應與原案申請一致,並註明原案申請號、申請日,否則,不按分案申請處理。要求本國優先權的發明或實用新型,在請求書中註明在先申請的申請國別、申請日、申請號,並應於在先申請日起一年內提交。
4.申請文件清單。
5.附加文件清單。
6.當事人簽字或者蓋章。
7.確有特殊要求的其它事項。
(二)說明書
說明書應當對發明或實用新型作出清楚、完整的說明,以所屬技術領域的技術人員能夠實現為准。
(三)權利要求書
權利要求書應當以說明書為依據說明發明或實用新型的技術特徵,清楚、簡要地表述請求專利保護的范圍。
(四)說明書附圖
說明書附圖是實用新型專利申請的必要文件。發明專利申請如有必要也應當提交附圖。附圖應當使用繪圖工具和黑色墨水繪制,不得塗改或易被塗擦。
(五)說明書摘要及摘要附圖
發明、實用新型應當提交申請所公開內容概要的說明書摘要(限300字),有附圖的還應提交說明書摘要附圖。
(六)外觀設計的圖片或者照片
外觀設計專利申請應當提交該外觀設計的圖片或照片,必要時應有簡要說明。
三、提交專利申請文件應當使用專利局制訂的統一表格,使用計算機中文打字或者印刷(包括表格中文字),一式兩份。
四、申請文件的遞交
申請文件可以到專利局受理處辦理當面遞交或以郵寄方式寄交,或者到專利局設在全國各地的十四個代辦處辦理當面遞交或以郵寄方式寄交。
1.以郵寄方式遞交申請文件的必須按照專利法的要求以掛號信函方式郵寄,保存好掛號憑證。以非掛號信函方式郵寄申請文件的,專利局將不予查詢。
2.以包裹形式郵寄申請文件的,專利局將不予受理。
3.根據專利法實施細則第119條規定,以郵寄方式遞交專利申請的,每封掛號信函只能郵寄同一件專利申請的文件。
附:
1.國家知識產權局專利局地址:北京市海淀區薊門橋西土城6號受理處,郵政編碼:100088
2.所需表格及填表說明可從國家知識產權局網站下載,網址是:http://www.sipo.gov.cn/sipo/zlsq/zlsqbg/default.htm
3.所需表格也可以信函方式向專利局初審及流程管理部綜合處申請郵寄。
4.全國各地代辦處地址:http://www.sipo.gov.cn/sipo/zlsq/dbc/t20030305_12208.htm