磁控濺射ito專利

1、如何提高ITO穿透率？

ITO導電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫（俗稱ITO）膜加工製作成的。液晶顯示器專用ITO導電玻璃，還會在鍍ITO層之前，鍍上一層二氧化硅阻擋層，以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內液晶里擴散。

所以在方阻一定的條件下，要提高ITO導電玻璃的透過率，可從氧化銦和氧化錫的配比、二氧化硅阻擋層的厚度兩個方面來考慮

2、ito靶材是什麼

ito靶材就是氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合後經過一系列的生產工藝加工成型，再高溫氣氛燒結（1600度，通氧氣燒結）形成的黑灰色陶瓷半導體。ito薄膜是利用ito靶材作為原材料，通過磁控濺射把ito靶氣化濺渡到玻璃基板或柔性有機薄膜上。

ito靶材主要是在平板顯示器中得到廣泛的運用，靶材主用是在半導體中運用廣泛。科技發展的迅速，讓電子行業在市場中占據很大的份額，直接影響到了人們的工作和生活。

ito靶材有極高的性能優勢，而且有比較高的耐熱沖擊性，在使用中不會對設備造成損壞，同時它的純度特別的高。目前，市場中很多電子產品都用到了平面顯示器，液品電腦、液品電視進入到了千家萬戶，液晶的產品不管是在外觀上還是在質地上都是比較高的，而且能夠降低耗能。

ito靶材被廣泛運用到了電子領城，因為電子領域對於材料的要求普遍比較高。它為電子行業的發展起到一定的推進作用，同時靶材能夠延長電子產品的使用壽命，而且質量也比較符合檢測標准，一般很少會出現產量不合格的現象，同時在外觀上也能符合人們的要求。

3、什麼是ITO？ITO導電膜有什麼用

液晶顯示器的液晶盒中上下玻璃片之間的間隔,即通常所說的盒厚,一般為幾個微米(人的准確性直徑為幾十微米).上下玻璃片內側,對應顯示圖形部分,鍍有透明的氧化甸-氧化錫(簡稱ITO)導電薄膜,即顯示電極。
ITO導電膜是指採用磁控濺射的方法（ITO 薄膜的制備方法有蒸發、濺射、反應離子鍍、化學氣相沉積、熱解噴塗等, 但使用最多的是反應磁控濺射法），在透明有機薄膜材料上濺射透明氧化銦錫(ITO)導電薄膜鍍層並經高溫退火處理得到的高技術產品。ITO膜層的厚度不同，膜的導電性能和透光性能也不同。一般來說，在相同的工藝條件和性能相同的PET基底材料的情況下，ITO膜層越厚，PET-ITO膜的表面電阻越小，光透過率也相應的越小。ITO薄膜具有良好的導電性和可見光區較高的光透過率。

4、求救！！什麼是射頻磁控濺射ITO薄膜沉積速率的研究

沉積速率：沉積在物體表面的膜層形成過程的快慢
射頻濺射：極高頻率，達到射頻范圍，通過電場，將固定的材料分子從材料上濺射出來。（後期沉積到指定的基體）
ITO：自己查查百度
一般速率研究包括在不同的環境下：濺射時氣體壓強（真空度）、電流、電壓、頻率、功率等等，相同時間內形成的膜層厚度。

5、ito靶材是什麼？

ito靶材屬於陶瓷靶材的一種，近些年來人們對於電腦、電視、手機顯示屏的追求越發明顯，由此也帶動了ito靶材的市場需求。但目前ito技術發展還不夠先進，發展空間巨大。

ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、電致有機發光平面顯示器(OELD)等離子顯示器(PDP)等。

(5)磁控濺射ito專利擴展資料：

國內對ITO靶材的需求量大幅增長，國內生產的ITO靶材密度低，無法滿足高端平板顯示器行業對於靶材質量的要求．僅僅部分用於低端液晶產品中。目前世界上只有日本、美國、德國等少數發達國家和地區能生產ITO靶材，而我國平板顯示器產業所需求的ITO靶材的98％依賴於進口，因此，研製開發ITO靶材生產技術是現有In生產企業開發In深加工技術的首選目標。

國外ITO靶材的生產工藝和技術設備已較為成熟和穩定。其主要制備方法有熱等靜壓法、熱壓法和燒結法。

6、聆道的磁控濺射系列隔熱膜怎麼樣？

聆道磁控濺射復系列隔熱膜是由價制值3千萬歐元的磁控濺射設備製造而成，嚴格把控每一個生產環節，採用美國航天科技，稀有金屬多層磁控濺射，其優異的隔熱表現來自於獨特的智能光譜選擇性技術，憑借多項獨有專利技術，聆道隔熱膜實現了高透光與高隔熱的完美平衡，滿足人們對汽車隔熱膜透光與隔熱的雙重需求。