通過阿斯麥認證的上市公司

1、中國或者中國公司為什麼不控股ASML？

上市公司為了預防惡意收購，都有相應的舉措，不是你想的那麼容易。

2、ASML是唯一能製造極紫外光刻機的廠商，晶元製造到底有多難？

近幾年來，中國科技行業遭到國外的嚴重打壓，尤其是電子晶元成為我國半導體領域最突出的短板，生產晶元最重要的設備是光刻機，世界上先進的光刻機主要由荷蘭一家名為阿斯麥（ASML）的公司製造，市場佔有率超過80%，而其中最先進的極紫外光刻機（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能製造。

ASML

ASML雖然是一家荷蘭的公司，但是出口光刻機受到西方國家的嚴格控制，ASML的大股東包括美國因特爾、台灣積體電路製造（台積電）、韓國的三星、荷蘭皇家飛利浦電子公司等等，其中因特爾佔有股份大約為15%，台積電大約5%。

ASML的股份結構相當復雜，國際上眾多大公司參股，使得ASML形成一個龐大的利益共同體，但是ASML受到《瓦森納協定》的約束，中國也是被該協定限制的國家之一，一些敏感的設備和技術無法出口到中國。

光刻機是當今世界科技領域的集大成者，是人類當前科技的巔峰產物，ASML之所以能製造最先進的光刻機，也是因為特殊的股權結構，使得ASML能匯集當前各項前沿科技，整合各種零部件。

一台光刻機重達幾十噸，包含十多萬個零部件，每台機器從下單到交付要21個月，單價格超過1億美元，即便這樣買家還是排著長隊，數據顯示，ASML在2017年交付了12台光刻機，2018年18台，2019年26台，預計2020年達到35台。

電子晶元

第一台電子計算機誕生於1946年，位於美國的賓夕法尼亞大學，當時研究人員使用了18000個電子管，1萬多個電阻和電容，6000多個開關，總重量30多噸，啟動時功率高達150千瓦，運算能力為每秒5000次。

每秒5000次的計算能力，還遠遠比不上現在幾塊錢的掌上計算器，人類科技之所以有這么大的進步，就是因為有了晶元的發明，而晶元的發明者是美國人傑克·基爾比，他在2000年因此獲得諾貝爾獎。

傑克·基爾比1947年畢業於美國伊利諾斯大學，然後就職於德州儀器，擔任研發工程師，期間產生了一個天才的想法——把所有的元器件弄到一塊材料上，並相互連接成電路。

傑克·基爾比很快付諸實踐，並開始構思這個電路，然後以硅作為材料，製造出了人類第一個晶元，他把自己的想法告訴公司後，受到了公司的高度重視，次年，傑克·基爾就申請了專利。

利用傑克·基爾比發明的晶元，我們就可以把一台幾十噸的計算機「裝進」一個指甲蓋大小的體積內，而且運算速度大幅提高，功耗大幅降低。

光刻機原理

光刻機的基本原理並不是機密，但其中的零部件不是誰都能製造的，以至於外國人對我們說「即便把光刻機的所有圖紙給你們，你們也造不出來光刻機。」

製造晶元首先需要用到的材料就是高純度硅，然後把硅切片得到晶圓，接下來就是高精度的晶圓加工，也是光刻機中的核心技術。

我們首先在晶圓上塗一層特殊的材料，該材料在光線的照射下會融化蒸發，於是我們使用繪制好圖案的透光模板，經過特殊激光照射後，就能在晶圓表層的材料上刻出圖案，然後用蝕刻機刻蝕晶圓，分化學刻蝕和電解刻蝕（比如用等離子體沖刷等等），而沒有塗感光材料的部分將保留下來。

經過刻蝕後，晶圓表面就留下了很多凹槽，我們向其中選擇性地摻入磷等元素，就能形成N型半導體；摻入硼等元素，就能形成P型半導體；摻入銅等元素，就相當於導線；三者按照一定的空間結構結合，就形成了PN結（PN結可以理解為一個開關），大量PN結按照一定方式進行組合，就能完成相應的數學運算。

實際當中，一塊晶元的結構是三維的，在一層光刻和蝕刻完成後，需要清洗干凈，然後再光刻和刻蝕下一層，這樣一直疊加十幾二十層，形成了立體的晶元，也就是這么一張小小的晶元，裡麵包含了數十億、甚至上百億個晶體管（晶體管包括二極體、三極體等等），比如華為麒麟990的晶體管數達到了103億。

ASML生產的EUV光刻機，每小時能雕刻100多塊晶圓，每塊晶圓又能分割成許多個塊晶元。

光刻機的關鍵技術

物鏡製造技術

光刻機的原理並不難，但是要生產其中的零件並不容易，其中最昂貴且最復雜的零件就是投影物鏡，由於晶元光刻的尺寸只有幾納米，所以對投影物鏡的誤差要求極高，一張直徑30厘米的物鏡，要求起伏誤差不超過0.3納米，相當於地球這么大的球體，要求表面凹凸不能超過10cm。

這樣的精度要求，全世界只有德國的蔡司公司能製造，連日本尼康、佳能這樣的透鏡大廠也做不出來，更不用說中國的公司了。

光源技術

另外，光刻機中的光源也是一項難以攻克的技術難關，對於深紫外光（DUV）刻，使用的光源波長是193nm，這是光刻機中的一個技術分水嶺，晶元發展曾經在193納米光源停滯了十多年的時間，後來浸沒技術縮短波長（原理是在表面鍍上一層薄薄的水膜，利用光的折射現象，可以縮短光的波長），加上各項技術的改進，最終193nm光源可以把晶元製程推進到28nm，這也是深紫外光刻的極限。

極紫外光刻（EUV）使用波長更短的激光（13.5nm），相對於深紫外光刻，需要重新研發刻蝕材料、光刻膠、刻蝕工藝等等，對精度的要求進一步提高，目前只有荷蘭ASML一家公司能製造極紫外光刻機。

而且西方國家對我國的技術打壓是非常狠的，比如2009年的時候，中國上海微電子研發出90納米的光刻機，在2010年西方國家就解除了90納米以上的光刻機對中國出口的限制，2015年又解除了65納米光刻機對中國出口的限制，讓中國的光刻機技術發展完全失去市場。

在這樣的情況下，中國晶元產業的發展舉步維艱，光刻機包含的關鍵技術太多，一時半會我們是繞不過去的；其實中國並不缺乏人才，只不過人才要用到什麼領域，需要政策引導才行，想到中國天眼FAST在2018年的一次網上招聘，年薪10萬難覓駐地科研人才，讓人感慨不已。

3、中芯國際與阿斯麥簽訂購買單，說明我們的晶元技術也能被世界承認了嗎？

中芯國際跟阿斯麥簽訂購買單，這並不能說明我們的晶元技術被世界承認了！理由如下：

中芯國際這次跟阿斯麥的合作其實就是我們向ASML公司購買產品而已。這跟我們的晶元技術被世界承認沒有任何的關系，因為整件事情，我們都是購買方，也沒有展現任何關於我們晶元技術的地方。所以說這只是一次簡單的交易，只能說明我們確實還是無法生產和製造光刻機，我們的晶元依然被人卡住了脖子。

中芯國際雖然前不久拿下了14nm以及28nm的許可，但是我們的晶元困境依然沒有解決，我們依然需要像ASML公司采購光刻機，我們依然需要依賴於美國的“放水”。所以中芯國際現在並沒有擺脫限制，只能說美國暫時鬆手了。可是對方有技術在手，任何時候他們想要重新卡住我們的脖子，依然可以繼續。

中芯國際雖然是國內晶元行業的巨頭企業，但是跟國際巨頭相比，中國的晶元技術依然還是在落後的水平。現在全球晶元都已經在研究3nm甚至1nm工藝了。但是中芯國際依然還只有量產28nm以及14nm的水平，雖然中芯國際在國內晶元行業已經很厲害了，但是如果放到全球范圍內去對比的話，差距還是挺大的。

所以說現在不能說中國的晶元技術就已經被承認了，距離被承認，被認可還有很長的路要走。畢竟中國要在晶元方面有所突破，首先的一個大難題就是光刻機。就算是中芯國際也要依賴於ASML公司的光刻機，光刻機是製造晶元的重中之重，如果沒有光刻機，那麼很多中國設計的晶元也無法被製造出來。

所以說這次中芯國際跟阿斯麥簽約，並不能代表中國晶元的水平，只能表示中國要製造晶元還是要依賴ASML公司所生產的光刻機，這是中國企業暫時繞不開的。所以說中國晶元還有很長的路要走，在短時間內別說超越了，就算是要趕上現在的國際晶元水平，都是很有難度的。如果有一天中國晶元技術可以被承認，也就代表我們攻克了晶元技術。

4、生產光刻機有哪些上市公司？

生產光刻機上市公司有ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康、荷蘭ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能的產品系列共分布於三大領域：個人產品、辦公設備和工業設備，主要產品包括照相機及鏡頭、數碼相機、列印機、復印機、傳真機、掃描儀、廣播設備、醫療器材及半導體生產設備等。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

5、荷蘭ASML公司

這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

參考資料來源：網路-荷蘭ASML公司

參考資料來源：網路-尼康

參考資料來源：網路-佳能

參考資料來源：網路-上海微電子裝備有限公司

參考資料來源：網路-ABM

5、國內哪家上市公司的光刻材料是獲得阿斯麥的認證,是台積電和阿斯麥的供應商？

完了有很多家上市公司的光刻材料都是獲得阿斯麥認證的。四檯子店和阿斯麥的供應商。

6、300456向ASML提供晶元代工設計與製造嗎？

首先說明兩個概念:晶元設計與晶元代工其實它們是有很大區別的,舉個例子:像高通、三星

7、荷蘭很小面積4萬平方公里 人口1600萬 為何這么發達？ 製造cpu用的光刻機。荷蘭asml公司

推薦你去看大國崛起荷蘭篇

荷蘭國家小,封建統治力量相對薄弱,資產階級革命最早取得成就,建立了為資產階級服務的政權和強大的海軍.社會制度是主要原因.

8、ASML是唯一能製造極紫外光刻機的廠商，高端晶元製造到底有多難？

近幾年來，中國科技行業遭到國外的嚴重打壓，尤其是電子晶元成為我國半導體領域最突出的短板，生產晶元最重要的設備是光刻機，世界上先進的光刻機主要由荷蘭一家名為阿斯麥（ASML）的公司製造，市場佔有率超過80%，而其中最先進的極紫外光刻機（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能製造。

ASML

ASML雖然是一家荷蘭的公司，但是出口光刻機受到西方國家的嚴格控制，ASML的大股東包括美國因特爾、台灣積體電路製造（台積電）、韓國的三星、荷蘭皇家飛利浦電子公司等等，其中因特爾佔有股份大約為15%，台積電大約5%。

ASML的股份結構相當復雜，國際上眾多大公司參股，使得ASML形成一個龐大的利益共同體，但是ASML受到《瓦森納協定》的約束，中國也是被該協定限制的國家之一，一些敏感的設備和技術無法出口到中國。

光刻機是當今世界科技領域的集大成者，是人類當前科技的巔峰產物，ASML之所以能製造最先進的光刻機，也是因為特殊的股權結構，使得ASML能匯集當前各項前沿科技，整合各種零部件。

一台光刻機重達幾十噸，包含十多萬個零部件，每台機器從下單到交付要21個月，單價格超過1億美元，即便這樣買家還是排著長隊，數據顯示，ASML在2017年交付了12台光刻機，2018年18台，2019年26台，預計2020年達到35台。

電子晶元

第一台電子計算機誕生於1946年，位於美國的賓夕法尼亞大學，當時研究人員使用了18000個電子管，1萬多個電阻和電容，6000多個開關，總重量30多噸，啟動時功率高達150千瓦，運算能力為每秒5000次。

每秒5000次的計算能力，還遠遠比不上現在幾塊錢的掌上計算器，人類科技之所以有這么大的進步，就是因為有了晶元的發明，而晶元的發明者是美國人傑克·基爾比，他在2000年因此獲得諾貝爾獎。

傑克·基爾比1947年畢業於美國伊利諾斯大學，然後就職於德州儀器，擔任研發工程師，期間產生了一個天才的想法——把所有的元器件弄到一塊材料上，並相互連接成電路。

傑克·基爾比很快付諸實踐，並開始構思這個電路，然後以硅作為材料，製造出了人類第一個晶元，他把自己的想法告訴公司後，受到了公司的高度重視，次年，傑克·基爾就申請了專利。

利用傑克·基爾比發明的晶元，我們就可以把一台幾十噸的計算機“裝進”一個指甲蓋大小的體積內，而且運算速度大幅提高，功耗大幅降低。

光刻機原理

光刻機的基本原理並不是機密，但其中的零部件不是誰都能製造的，以至於外國人對我們說“即便把光刻機的所有圖紙給你們，你們也造不出來光刻機。”

製造晶元首先需要用到的材料就是高純度硅，然後把硅切片得到晶圓，接下來就是高精度的晶圓加工，也是光刻機中的核心技術。

我們首先在晶圓上塗一層特殊的材料，該材料在光線的照射下會融化蒸發，於是我們使用繪制好圖案的透光模板，經過特殊激光照射後，就能在晶圓表層的材料上刻出圖案，然後用蝕刻機刻蝕晶圓，分化學刻蝕和電解刻蝕（比如用等離子體沖刷等等），而沒有塗感光材料的部分將保留下來。

經過刻蝕後，晶圓表面就留下了很多凹槽，我們向其中選擇性地摻入磷等元素，就能形成N型半導體；摻入硼等元素，就能形成P型半導體；摻入銅等元素，就相當於導線；三者按照一定的空間結構結合，就形成了PN結（PN結可以理解為一個開關），大量PN結按照一定方式進行組合，就能完成相應的數學運算。

實際當中，一塊晶元的結構是三維的，在一層光刻和蝕刻完成後，需要清洗干凈，然後再光刻和刻蝕下一層，這樣一直疊加十幾二十層，形成了立體的晶元，也就是這么一張小小的晶元，裡麵包含了數十億、甚至上百億個晶體管（晶體管包括二極體、三極體等等），比如華為麒麟990的晶體管數達到了103億。

ASML生產的EUV光刻機，每小時能雕刻100多塊晶圓，每塊晶圓又能分割成許多個塊晶元。

光刻機的關鍵技術

物鏡製造技術

光刻機的原理並不難，但是要生產其中的零件並不容易，其中最昂貴且最復雜的零件就是投影物鏡，由於晶元光刻的尺寸只有幾納米，所以對投影物鏡的誤差要求極高，一張直徑30厘米的物鏡，要求起伏誤差不超過0.3納米，相當於地球這么大的球體，要求表面凹凸不能超過10cm。

這樣的精度要求，全世界只有德國的蔡司公司能製造，連日本尼康、佳能這樣的透鏡大廠也做不出來，更不用說中國的公司了。

光源技術

另外，光刻機中的光源也是一項難以攻克的技術難關，對於深紫外光（DUV）刻，使用的光源波長是193nm，這是光刻機中的一個技術分水嶺，晶元發展曾經在193納米光源停滯了十多年的時間，後來浸沒技術縮短波長（原理是在表面鍍上一層薄薄的水膜，利用光的折射現象，可以縮短光的波長），加上各項技術的改進，最終193nm光源可以把晶元製程推進到28nm，這也是深紫外光刻的極限。

極紫外光刻（EUV）使用波長更短的激光（13.5nm），相對於深紫外光刻，需要重新研發刻蝕材料、光刻膠、刻蝕工藝等等，對精度的要求進一步提高，目前只有荷蘭ASML一家公司能製造極紫外光刻機。

而且西方國家對我國的技術打壓是非常狠的，比如2009年的時候，中國上海微電子研發出90納米的光刻機，在2010年西方國家就解除了90納米以上的光刻機對中國出口的限制，2015年又解除了65納米光刻機對中國出口的限制，讓中國的光刻機技術發展完全失去市場。

在這樣的情況下，中國晶元產業的發展舉步維艱，光刻機包含的關鍵技術太多，一時半會我們是繞不過去的；其實中國並不缺乏人才，只不過人才要用到什麼領域，需要政策引導才行，想到中國天眼FAST在2018年的一次網上招聘，年薪10萬難覓駐地科研人才，讓人感慨不已。